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勻膠旋涂儀的操作步驟

更新時(shí)間:2024-06-24       點(diǎn)擊次數(shù):3406
勻膠旋涂儀是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備,膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠。

勻膠旋涂儀的使用步驟:

1、開機(jī)前準(zhǔn)備:清理殘余物,選擇合適的吸盤,并將樣品放在吸盤正中央。

2、開機(jī)與設(shè)定:打開電源,設(shè)定涂布的時(shí)間和轉(zhuǎn)速,并啟動(dòng)真空吸附。

3、涂布:滴加光阻劑,并啟動(dòng)涂布過程。

4、完成涂布后,關(guān)閉真空和電源,取下樣品。

本公司提供的L2001勻膠旋涂儀操作簡單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,占地面積小,節(jié)省超凈間的使用面積,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對(duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對(duì)超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。

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