為什么要在高真空下鍍膜?
更新時(shí)間：2020-01-16 點(diǎn)擊次數(shù)：4420
為什么要在高真空下鍍膜? 1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。
2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長(zhǎng)。膜料容易沉積在基片上。
3、 由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。
若晶振水堵塞后把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開(kāi)，并把閥門(mén)關(guān)上，用壓縮空氣從進(jìn)口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出。
地址：北京市豐臺(tái)區(qū)科興路7號(hào)國(guó)際企業(yè)孵化中心301室
郵箱：cif_lab@163.com
傳真：86-010-63752028